压下了沸腾的现场，李林飞开始沉稳的介绍phc2.0的各大技术亮点，以及国产集成电路工业的突破。在发布会接下来的时间又公布了两个让全民为之沸腾的消息，一个是完全具备自主知识产权的国产5纳米级的euv光刻机和等离子蚀刻机。
对于蚀刻机而言，大家内心无太大波动，因为这个领域国内的中微半导体一直走在世界一流的前列，真正心中心头之痛是光刻机，这是芯片制造中难度最高的设备，国产光刻机始终落后外国三代以上，进一步导致的是整个国产半导体工业的落后。
当李林飞宣布一项项技术的突破时，是一次次全民沸腾的时刻。
“天呐，这是不是梦？如果是梦别让我醒来。”
“我们能够做到5纳米级国产光刻机了？”
“也就是说从今天开始，国产半导体正式步入高端领域了？”
“应该是了，不说领先世界，起码步入世界一流无疑了。”
“国产半导体材料选择了锡烯，那绝对是完全独立自主的知识产权了，老外搞的硅片，涌镇半导体搞的锡片。”
“从90纳米，到5纳米，只用了两个多月，李林飞和整个csac半导体联盟是怎么做到的？”
不仅是现场的外媒记者和外国从业者嘉宾们感到不可置信，就连无数国人都感到不可思议，什么时候半导体制程工艺这么容易了？
在全场沸腾不断之中也伴随着诸多质疑的目光，但接下来李林飞在所有人面前展示了phc2.0展品，一系列流畅的操作简直美如画，尤其他大手向外一扫，七百多个视频面板被甩出来悬浮在空中的时候，这幅
第一千一百零二章难以置信(2/4)