为了避免光刻胶线条倒塌，线宽越小的光刻工艺，如目前的32nm，28nm、22nm光刻，对光刻胶的要求高的离谱，所需厚度越来越薄。
22nm的光刻技术制程，光刻胶的厚度要求达到了是100nm左右。
太厚曝光不足，太薄又无法有效的形成光阻，不能阻挡等离子体对衬底的刻蚀，非常的麻烦，必须要严格按照标准来镀膜。
钟子星与江浩然两人都穿着白大衣，带着护目镜和口罩，身边还跟着几位助手，独占一间实验室。
“第20次实验，厚度依然无法达标……”
江浩然操作着一台电子显示器，屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现，均匀分布，但是远远无法达到顶尖的水准。
稍微低端的刻蚀足够，但绝对无缘顶级市场。
“得从其他方面入手！”
“比如加入一些别的材料？硅材料或碳材料！”钟子星双手扶着白色的实验台，陷入沉思。
以传统的方式进入光刻胶领域，想要超越深耕此道数十年的老牌巨头显然是不现实的，得走一走别的路才行。
“试试看，开始第21次实验！”
科研就是在失败中前进，没有人能形容找到路时那种心情，重要的是敢于尝试。
“好！”江浩然话不多，能动手绝不多说。
两人加上数个助理立刻开始投入新的实验，在光刻胶中加入其他材料，无论是光敏强或弱，都在试验范围之内。
把含硅光刻胶旋涂在一层较厚的聚合物材料，设想中，其对光是不敏感的。
“
第226章 含硅光阻与高考！(2/4)