居然达到十四纳米这也太让人震惊了吧！
其实这个时候经过多重曝光以后芯片制程已经进入了四十五纳米。
虽然通过多次曝光，可以将精度提升的更高。
但曝光次数多良品率就随之下降。
所以多次曝光技术用在高端芯片还可以。
羊毛出在羊身上。
最后由消费者来买单。
但用在消费级的芯片就不划算了。
成本太大根本就是赔钱。
这也是为什么全球手机芯片市场还是以四十五纳米为主。
谁知道龙翰微电子的光刻机居然一下突破到了十四纳米。
这是传统的DUV光刻机根本做不到的事情。
谁也没想到这个EUV光刻机居然这么厉害。
居然将芯片制程提升了几个量级。
这步子也太大了一点吧！
全球这会都在报道华夏国光刻机突破到EUV的事情。
不少国外的公司也找到了华光微电子。
想购买他们的光刻机。
不过这次华光微电子表示将会龙翰微电子优先供货。
其他国家需要等龙翰微电子不需要了以后再说。
其实这就是苏翰的意思。
本来他也没想搞什么光刻机垄断生意。
但问题是现在各国现在都来找自己的麻烦。
给自己花式加税。
既然如此那么以后也别用自己的光刻机了。
想要芯片可以。
找自己来代工。
自己赚不到手机钱。
那就赚点配件钱。
不过就算代工也是有条件的。
那就是必须使用
第327章 EUV光刻机原型机生产成功(3/6)