但我认为这种局面不可能长久的保持下去。咱们国家的光刻机虽然落后，但却是全产业链，当中并没有使用什么发达国家的技术。
光刻机是一个国家工业整体进步的重要标志性产物。
光刻机制造水平的进步，将推动国家整体工业制造水平的进步。
不过像您说的，技术不行，生产出来的芯片可能制作工艺上会落后于国际平均水平。
但我是这样看的。
水平不够，体积来凑，芯片可以做的大一点嘛！
虽然会降低良品率，但哪怕只有百分之一也是我们自己的产品。
虽然我设想中的未来芯片市场主要竞争方向，应该是那种极微小型，集成化的芯片。
但那毕竟还需要很长一段时间的沉淀。
眼下还用不着。
现在的电脑机箱，那么大一块地方！
芯片设计的稍微大一点其实也没占多少地方。
关键是能不能实现我们的具体目标和功能。
这才是关键的问题。
而且我们现在正在研究一种全新的曝光技术，可以通过多重曝光，来提高图形密度。
虽然多重曝光有很多的问题，容易影响酸碱性，无法适应多种图形,降低良品率，增加生产成本。
但我们的目的是完全自主可控的芯片设计和制造，市场化和成本，暂时还不在考虑范围。
关键是先完成了以后在一点点的技术迭代提高良品率。
当产品真正可以量化以后，就可以从消费市场上输血，然后再用这些血来迭代光刻机的技术，增加精度，降低成本，走大众化，精品化的路线。
但这都是以后的事情。
第107章 胡光南加入翰林院(2/4)